集成电路制造中的电镀锡工艺分析
2025.12.03点击:
摘要:阐述集成电路电镀锡工艺,包括甲基磺酸体系的酸性镀锡工艺流程、甲基磺酸体系的酸性镀锡操作过程、电镀液浓度控制、镀液中各组分浓度及工艺条件的影响,为集成电路电镀锡工艺的改进提供借鉴。
关键词: 集成电路;电镀锡工艺;工艺条件;
DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2025.05.035
专辑: 信息科技
专题: 无线电电子学
分类号: TN405
- 上一篇:AI时代是一波大浪,我们要乘风破浪 2025/12/4
- 下一篇:倒装芯片底部填充胶工艺的应用 2025/12/3